磁控濺射陰極技術(shù)及特點(diǎn)

更新時(shí)間：2015-09-18 點(diǎn)擊次數(shù)：1761

磁控濺射陰極核心技術(shù)及特點(diǎn)：

1.特殊設(shè)計(jì)的磁體結(jié)構(gòu)，使得磁場線跨度范圍更寬，從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性

2.湍流冷卻技術(shù)，使得水流能夠更平緩的進(jìn)入陰極，從而提高冷卻效果

3.特殊設(shè)計(jì)的耙材固定結(jié)構(gòu)，使得耙材更換起來更簡單，降低停工期

4.*的磁體材料 NdFeB，他的強(qiáng)度比其他的稀土磁體要強(qiáng)30%

磁控濺射陰極優(yōu)勢

1.*的靶材利用率，zui高可以達(dá)到50%，從而降低靶材成本

2.*的產(chǎn)品均勻性，zui高可以達(dá)到±3%

3.可以在更低的真空以及更高的功率下運(yùn)行：zui低壓力可以達(dá)到10-4TOR

4.我們的直接水冷結(jié)構(gòu)可以提高其功率密度達(dá)到250Watt s/in2

5.提高沉積速率

6.多樣的復(fù)合設(shè)計(jì)

7.高標(biāo)準(zhǔn)率