真空鍍膜機(jī)要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)： 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜：
 
 一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。

 厚度均勻性主要取決于：
  1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面溫度
  3、蒸發(fā)功率，速率
  4、真空度
  5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。
 
 組分均勻性：

 蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

 晶向均勻性：

  1、晶格匹配度
  2、基片溫度
  3、蒸發(fā)速率

 濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。